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参数可以堆,但真想拉开差距? 靠系统能力|维宏2026 CCMT探展

这几年,机床行业一直在卷参数。功率更高、速度更快、精度更细。但在CCMT现场,一个越来越明显的趋势是:参数可以被堆出来,真正拉开差距的,是系统能力。2026CCMT,我们走进维宏股份展台,重点聊了五轴系统、多通道协同、复杂工况控制,以及一家做控制系统的公司,如何把越来越复杂的加工过程“真正管起来”。

  1. 2026/4/30
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维萨拉半导体干燥气体与晶圆测试中的露点测量

在半导体制造过程中,“干燥”从来不是一个简单的环境条件,而是决定良率与稳定性的关键变量。从气体输送到晶圆探针测试,哪怕是极其微量的水分变化,都可能引发一系列问题:测试腔体结霜、测量误差增加、工艺波动甚至设备停机。


然而,在实际应用中,企业仍然面临诸多挑战:气体管线中的温度波动、复杂的连接结构、低流量环境以及采样过程本身,都可能让露点测量变得“不再可靠”。


在超干燥环境下,露点的微小变化意味着水分含量的巨大差异。例如,在-80°C露点条件下,气体中的水分含量仅为约0.5ppmv,相比普通办公室空气,干燥程度高出数万倍。


在这样的环境中:测量误差不再只是“数值偏差”,而可能直接影响工艺判断与产品质量。尤其是在晶圆探针测试过程中,若露点控制不当,测试腔体极易产生结霜,进而影响测试准确性与设备稳定性。


会议议程

极端干燥条件下露点测量的核心原理

半导体气体系统中的典型挑战

晶圆测试中的露点控制关键点

如何通过优化测量方式提升数据可靠性

快速响应技术在实际应用中的价值


  1. 2026/4/28
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倍福以 PC 控制重构金属加工新格局

依托基于 PC 的自动化技术,倍福带来的高速高效、灵活适配的创新自动化优势,让全球金属加工设备制造商的机器性能迅速提升到一个前所未有的境界。

  1. 2026/4/14
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维萨拉 压缩空气中的露点测量

在工业生产中,压缩空气被广泛应用于各类关键环节,从自动化控制到产品制造,它几乎无处不在。然而,一个常被忽视的问题是:空气中的水分,往往是影响系统稳定性与产品质量的隐形风险。


当压缩空气中的湿度控制不到位时,问题可能迅速显现——管道腐蚀、设备结冰、过滤器性能下降,甚至导致产品污染与质量缺陷。在一些对环境要求更高的行业,如电子、制药或食品领域,这些风险更是不可接受。


那么,如何真正掌控压缩空气中的湿度?答案在于一个关键指标:露点。


在本次研讨会中,维萨拉专家将结合实际应用经验,系统讲解压缩空气中露点测量的关键原理与实践方法,帮助您从“理解问题”走向“解决问题”。

演讲人:卢金章-维萨拉工业测量部应用经理

会议议程

基础理论——掌握压缩空气中湿度与露点的核心概念,以及它们为何至关重要。

风险与收益——了解缺乏露点监测所带来的常见问题,以及实现受控干燥所带来的优势。

解决方案与技术——介绍可用的测量仪器、采样注意事项,以及如何选择合适的测量方案。

应用与案例——来自不同行业与系统类型的实际应用示例。

公司简介

维萨拉提供测量仪器和智能化应用,我们是应对气候变化的积极探索者和行动者。我们提供可靠的测量设备和数据,助力客户提高资源利用效率,并推动能源转型,同时也致力于保障大众的安全以及提升社会福祉,让世界变得更美好。我们拥有近 90 年创新和专业知识的深厚积淀,更拥有一支超过 2,300 名专业人员组成的精英团队,我们尽心竭力保护地球家园。维萨拉 A 股股票在纳斯达克赫尔辛基证券交易所上市。


  1. 2026/4/14
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国民技术N32H49x系列深度解读:高性能MCU在光通信、储能、工业控制的应用优势全解析

N32H49x系列:高性能MCU赋能光通信、储能与工业控制

本次演讲将围绕N32H49x系列的三款子型号——N32H492、N32H493、N32H497展开,重点解读其在三大应用场景中的差异化优势:

光通信场景:N32H493支持1.8V低压I/O独立供电,可直接对接SFP/SFP+/SFP28及QSFP光模块,无需电平转换;双Bank Flash实现业务零中断升级;SRAM全ECC纠错保障数据完整性;FEFT 4A级,ESD 4A级抗干扰能力适应复杂电磁环境。

储能BMS场景:N32H497系列集成3路CAN-FD,满足多节点通信需求;3×12bit高速ADC实时监控电池电压/电流;硬件加密引擎防篡改,保障储能系统安全。

工业控制场景:N32H492/497系列内置三角函数加速器与Delta Sigma解调滤波,配合高级定时器,实现高精度伺服电机控制;10路U(S)ART、6路SPI满足多设备互联;-40℃~105℃宽温适应严苛工业现场。

会议议程

主题演讲:国民技术N32H49x系列深度解读:高性能MCU在光通信、储能、工业控制的应用优势全解析


   演讲人:国民技术市场总监  杨平

圆桌互动


   邀请在光通信、储能与工业控制领域具有深厚技术积累的合作伙伴共同分享行业洞察与实践经验


开发环境演示:现场演示开发板功能,涵盖全功能板与最小系统板


   演示人:国民技术高级工程师


FAE面对面


   互动人:国民技术高级FAE工程师


  1. 2026/4/14
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慕尼黑电子展圆满落幕,深度访谈行业专家精彩上线!

控制层到应用层,鸣志携一站式运动控制解决方案亮相展会,覆盖控制器、伺服系统、集成电机、直线传动及设备全生命周期管理等全品类产品,满足自动化多元应用需求。

聆听行业专家见解,读懂鸣志技术布局与行业未来。


  1. 2026/4/8
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走进一家,把技术基座做到极致的企业——维宏探访

走进维宏股份,与总经理赵东京展开深度对话。作为国内运动控制与激光切割数控系统的重要力量,维宏长期深耕控制系统、工艺算法与技术底座建设。在参数竞逐之外,他们选择用长期主义回应“卡脖子”难题,夯实中国数控与智能制造的根基。

  1. 2026/3/3
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运控新境界·品质新高度——松下GM5运动控制器为您的产线升级保驾护航

在智能制造加速发展的今天,产线对运动控制的稳定性、可靠性和开发效率提出了更高要求。松下全新GM5运动控制器应运而生,以卓越品质开启运控新境界!本次讲座将介绍GM5如何通过标准化开发,摆脱定制化编程困扰,提升工程效率与技术传承;如何从传统PLC迈向智能运动控制,实现性能飞跃;并展示其在实际应用中如何以高稳定性和高可靠性,解决杂牌控制器带来的运维难题。诚邀您参与,了解GM5如何为您的产线升级保驾护航,助力制造品质迈上新台阶!

演讲人:李庭弼

资深产品应用高级工程师/PLC和运动控制器的专项培训高级讲师

深耕自动化行业30年,主要从事可编程控制器及相关产品的开发,市场推广、用户应用支持和技术培训

刘斯纬:系统解决方案高级工程师

拥有15年自动化领域从业经验,负责运动控制器及相关系统方案的开发应用工作


会议议程

产品核心优势


1、GM5产品阵列,商品概述,系统构成


2、GM5产品特点


三大亮点介绍


1、追剪飞剪


2、振动抑制


3、张力控制


  1. 2026/2/3
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变革赋能,智造前行:工控网 × 风河开物 工业数字化革命研讨会

我们正站在工业数字化变革的浪潮之巅。人工智能、边缘计算、云原生与数字孪生等技术,正深度重塑智能制造、能源输送、交通运输等关键领域。面对这场变革,企业也迎来新的挑战:如何保障复杂系统在极端环境下的安全可靠?如何实现海量边缘数据的实时洞察与自主决策?又如何构建既智能又安全的下一代工业基础设施?


“变革赋能,智造前行”主题研讨会,由工控网携手风河开物共同呈现,旨在为您系统解答上述核心议题。作为全球关键任务智能系统软件领域的领导者,风河行业专家与资深技术领袖将齐聚一堂,深入分享如何借助前沿的软件定义技术,构建高性能、高可靠、高度自动化的工业系统,赋能企业在数字化竞争中持续领先。

演讲人


谷守建

大客户经理


现任风河开物科技公司大客户经理,25年嵌入式行业经验,熟悉嵌入式操作系统及相关软硬件方案。了解工业控制领域应用方案,包括轨交,半导体,机器人等。



陈延凯

资深现场应用工程师


嵌入式行业从业20多年,基于开物RTOS和开物Hypervisor产品在通信、航空、汽车、医疗、轨道交通、电力、核电等领域有丰富的应用经验。主要负责嵌入式操作性、虚拟化、边缘云相关的系统架构、安全认证、方案设计、内部协调、项目跟着、现场支持等工作。



会议议程

研讨会亮点


前沿技术深度解析:聚焦风河实时操作系统和私有云,阐释如何通过统一云原生平台实现工业系统全生命周期管理。


真实案例实践分享:汲取全球领先制造商与工程巨头的实战经验,了解风河技术在严苛工业场景中的落地成效。


专家面对面交流:与风河技术专家及架构师零距离对话,获取针对性的解决方案与创新思路。




听众收益

洞察趋势:把握工业4.0、IIoT及“软件定义工业”的发展方向与技术路径。


掌握方案:学习运用风河技术应对实时性、功能安全、信息安全与远程管理等核心挑战。


提升效率:了解如何通过集中化平台与自动化运维降低总拥有成本、加速产品上市。


激发创新:获取AI、边缘分析与云原生架构融入工业系统的可行路径与框架。


公司简介

风河开物中国是安波福(瑞士)中国全资子公司。


风河通过提供软件与专业技术,加速各行业的数字化转型,助力从边缘到云端的关键任务智能系统实现开发、部署、运营及维护。


软件定义、人工智能优先的世界正在重塑从航空航天到工业制造,从电信通信到汽车工业的各个市场领域。在这个日益由软件创新驱动的世界里,风河始终是技术领域的开拓者。


  1. 2026/1/27
  2. 人气(2426)
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  1. 2026/1/4
  2. 人气(1992)
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